for Endura II (12") / Centura (12")0400-75862 , 00...
一般而言,玻璃是一種由金屬氧化物和某些礦物質經過熔融後而生成的一種非結晶質或多晶(polycryst...
光學玻璃的物理性質中重要的有六項:A.光學的性質:主要為折射率(n,Refractive index...
ETAN Hi-Energy Implant Linac Structure
Brief tool tpypes as below:蝕刻 tool road map
經歷了慘重的產業衰退，好不容易感受到景氣復甦的科技廠商們，該是重新振作投入創新研發的時候了…但201...
國際半導體設備材料產業協會(SEMI)最新公佈的矽晶圓出貨報告預估，2010年全球矽晶圓出貨量將較今...
近日阿布達比投資業者ATIC宣佈將以39億美元總價收購新加坡晶圓代工廠特許半導體(Chartered...
一般金屬濺鍍 (sputter) 機台的工作底壓 (base pressure) 為 E-8, 為什...
for: Endura 5500/6", 8"Centura 5200/6", 8"Centura ...
010-23242 Endura 5500/6",8",12"0010-23242 Producer...
圖左為 VCR 接頭.圖右為 Swagelok 接頭.[宸韓科技]
1/8 * 2 = 2/8 inches. (1/4 inches)[宸韓科技]
Root’s pump 為一種高抽氣速率, 但壓縮比較低, 無法將 chamber 抽至較佳的底壓....
在機械式 pump 中, 所使用的 N2 purge/ N2 ballast 的設計目的為降低壓縮氣...