久違的分析

真的是久違的自我分析與覺察
在進行偏向靈性的活動時,不時會有些自我發現
在工作坊中,意外的腦波很活躍,不停的迸出想法
第一次打了約莫一千字,竟然直接消失,大概是某種神祕的阻礙
將覺察列述如下

敘述前,前言下生活近況
近期過得挺好,充足豐盛的三十已過
似乎生活工作上,較為平衡些
不過仍舊有許多持久放心上的事情
與後續覺察相關
感情上似乎也有著穩定的平衡
看發文頻率即知,也可能是我心情狀態調適得不錯


*過度的後設認知
過度發展的後設認知,使得我無法最純粹的感受了
成長即是豐富,也是缺失
被記得與誇獎的同時
後設認知立刻浮現
「講師很厲害,他有著大家的背景,非常用力地做連結」
即便有著溫暖與喜悅的感受,也立刻被認知蓋住,不持久
甚至有忖度之意
假設於一些不好的假設(他..是不是在調查大家的狀態、避開錯誤?
有些失落,但似乎也很適應這樣的狀態了
所以就推卸給成長與洗鍊吧

*創作的擔憂
我以為我沒有創作的焦慮,我的確沒有
但我有發想的憂慮,擔心該進入意識流時,沒有畫面
有了畫面後,開始擔心無法畫出如實之貌
真的開始創作後,感受到自己著實畫不出原貌
最終妥協,與藝術相關的議題,我總在妥協
該死的完美主義
作品完成後,看著別人的成品,暗自覺得自己的不美
但又滿足於完成一項作品的現在,逐漸接受自己的不完美
注意到畫作中,許多具體的內容,不像他人有諸多意象
也會思考,我的思緒是否被什麼框架
但分明我對氛圍、氣息敏感
或許是轉譯的障礙,或者是技法的困難吧

*黑暗面
提前的指導語暗示了我思考黑暗面相關的事
自滿於足夠真誠的自己,蠻有自信自己沒什麼隱瞞的黑暗
除去那些不符合社會期待的習慣外
總認為,我接受我的弱,也不怕被知道我不完美
而在夢境的創作過程以及不斷思考中,或許有些新發現
1 被看著的擔憂,我總想把事情做好、希望一切圓滿
(完美主義。對我而言,好的結束似乎事非常重要的事

2 承上,總想成為模範生,感到不安、些許的孤立無援
3 對人防衛,很快就區分出不想接觸的人,對其不耐煩、保持距離
(這是最像黑暗面的部份

*完美主義
不確定完美主義是否為黑暗面
但發現自己在面具的創作過程,受完美主義困擾居多
每一個當下、每一個步驟,都擔心做錯、且對一切不滿
過於微觀著看著紗布的拖絲、石膏的結塊
對於權威者的評價「做得很好」完全不予置信,直接認為是客套
拉遠看了伙伴為我做的,總覺得不錯
雖然覺得有點醜,但我知道那是我的臉長得不夠好
看著自己為夥伴做的,怎麼看怎麼不滿
百分之一百二十的完美主義,榮耀登場。
在這執著的過程中,我也意識到自己無法在意別人的感受
完全變成只想做好「事情」的人
粗亂的手法,少了幾分細緻,靠近的距離,信任/一廂情願覺得對方可以接納這樣的自己
結論:果然只能跟熟悉的人工作

最終,批判性的結語還是出現了
「面具到底是誰發明的,做出來好醜!」
對,我還是過意不去 :P

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